掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，功能类似于传统照相机的“底片”，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游行业生产流程衔接的关键部分，更是下游产品精度和质量的决定因素之一。
电子元器件发展 拉动市场扩增
随着电子信息技术的日新月异，5G技术和人工智能带动下游终端电子产品的更新换代速度越来越快，以平板电视、笔记本电脑、数码相机、智能手机等产品为主的消费类电子产品产销量持续增长，为平板显示、半导体芯片、触控、电路板等电子元器件相关行业带来巨大的市场空间，间接带动了掩膜版行业的发展。
在掩膜版下游应用中，IC用掩膜版占比最高为60%，其次是LCD用掩膜版占比为23%，其次是OLED、PCB等应用领域。
同时，电子元器件制造商为了满足其下游产品的多功能、小型化、便携性等需求，不断加大技术投入，开发新材料、新技术以及研发新产品，这也为掩膜版行业的发展带来了更多市场需求。
以平板显示市场为例，全球平板显示产业保持平稳增长，业态发展呈现尺寸大型化、竞争白热化、转移加速化、产品定制化等特点，受益于电视平均尺寸增加，大屏手机、车载显示和公共显示等需求的拉动，根据IHS预测，2016年-2025年全球新型显示面板需求面积的CAGR预计将达4%，到2025年增长至2.66亿平方米。
国内掩膜版发展落后 需求持续增长
全球掩膜版市场规模保持增长，而我国长期依赖进口。由于国内掩膜版行业发展落后，供应未及时跟进，因此国内掩膜版供需缺口逐年扩大。2011年我国掩膜版需求由5.09万平方米增加至2016年7.98万平方米，产量则由0.87万平方米增加至1.69万平方米，供给缺口由4.22万平方米扩大至6.29万平方米。
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